稀土抛光粉种类及技术特性研究分析

中国产业研究报告网讯：

    内容提要：稀土抛光粉中，最有害的杂质是机械杂质和稀土抛光粉中个别过硬的粒子，可能造成机械损伤，从而在表面上产生划痕，这些杂质包括工艺设备中的金属离子，或来自煅烧时过大的氧化物凝聚体。分级技术的应用也成为近年来生产稀土抛光粉的一项关键技术，尤其是生产高性能稀土抛光粉的关键技术，主要是控制稀土抛光粉的粒度。

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    1 稀土抛光粉的种类 

    稀土抛光粉的主要成分是CeO2，辅之以氟化物、铁、石英等杂质，根据生产工艺特点及其中CeO2含量可将铈基抛光粉分为三大类。第一类常用的制备工艺是使稀土富集物在固态下发生化学变化，从而转化成机械和化学性能均稳定的化合物。稀土氧化物含量为40% ～ 70%，含铈量在30% ～ 65%，粒度为1 ～ 4 um。这种稀土抛光粉价格相对便宜，切削力高，应用较广，主要用于阴极射线管、平板玻璃和镜片的抛光。 

    第二类铈基抛光粉是用化学沉淀法生产的，所得稀土沉淀经煅烧成为稳定的氧化物。稀土氧化物含量为80% ～ 100%，含铈量在40% ～ 80%，粒度为0． 5 ～ 4 um。这类稀土抛光粉的优点是成分均一，颗粒的尺寸和形状一致性好，但价格相对较高，主要用于光学玻璃光掩膜和液晶显示屏的抛光。 

    第三类是高铈抛光粉，用化学沉淀法生产的，所得稀土沉淀经煅烧成为稳定的氧化物。稀土氧化物含量大于90%，含铈量大于99%。抛光时间长，颗粒形状和硬度均匀，抛光表面均一，纯度高，因而抛出的表面均一，无缺陷，无杂质污染，适用于高速抛光，精密光学仪器器件、光学镜头、半导体元件、液晶显示器等高性能元件抛光。 

    2 稀土抛光粉的技术特性 

    对于一定组份和加工工艺的稀土抛光粉而言，稀土抛光粉的颗粒大小直接决定了抛光速率与所能达到的光洁度; 颗粒平均尺寸越大，则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大，因此，各类玻璃的抛光对抛光粉粒度要求有一定差异性，如平板玻璃和彩电玻壳的表面光洁度要求不高，所用抛光粉粒度要求可以大些( 1 ～ 4 um) ，而光学玻璃抛光所需抛光粉粒度要求就严些，一般要求粒度分布为亚微米级。若用聚氨酯高速抛光，对粒度和悬浮性要求更严，但不是越细越好，而是细而均匀。若粒度细，悬浮性好，则往往是切削力变差。因此，为了得到性能最佳的稀土抛光粉，必须寻求粒度、切削力和悬浮性之间的最佳匹配，确定最佳工艺技术条件，达到三者结合。另外，稀土中氧化铈纯度和非稀土杂质含量也影响稀土抛光粉性能，氧化铈含量使抛光效率增加。 

    稀土抛光粉中，最有害的杂质是机械杂质和稀土抛光粉中个别过硬的粒子，可能造成机械损伤，从而在表面上产生划痕，这些杂质包括工艺设备中的金属离子，或来自煅烧时过大的氧化物凝聚体。 

    分级技术的应用也成为近年来生产稀土抛光粉的一项关键技术，尤其是生产高性能稀土抛光粉的关键技术，主要是控制稀土抛光粉的粒度。