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2017-2023年中国高纯硅烷行业市场调研与发展前景预测报告

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【报告名称】2017-2023年中国高纯硅烷行业市场调研与发展前景预测报告
【关键字】高纯硅烷高纯硅烷市场分析
【出版日期】2017年12月
【交付方式】Email电子版/特快专递
【价　　格】纸介版：9800元电子版：9800元纸介+电子：10000元
【订购电话】400-700-9383(免长话费) 010-80993936 传真：010-60343813
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报告目录：

第一章 半导体、光伏产业用高纯硅烷概述

1.1 高纯硅烷简介

1.2 高纯硅烷的主要基本性能与质量指标

1.3 高纯硅烷的主要应用领域

1.4 高纯硅烷在发展我国电子工业中的重要作用

第二章 电子特种气体及其应用市场

2.1 电子特种气体概述

2.2 电子特种气体制造中的主要技术方面

2.3 电子特种气体的度要求

2.4 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题

2.4.1 对电子特种气体杂质、纯度要求的问题

2.4.2 气体配送及供应问题

2.4.3 储存、使用中的安全性问题

2.4.4 成本性问题

2.5 国内外电子特种气体行业发展概述

2.5.1 境外电子特种气体生产与市场情况

2.5.2 国内电子特种气体行业及其发展

第三章 高纯硅烷气体性能指标及制备、净化的工艺线

3.1 高纯硅烷的性能指标

3.2 高纯硅烷工业化制备的典型工艺线

3.2.1 制备工艺法概述

3.2.2 硅化镁合金法制备硅烷

3.2.2 .1工艺过程

3.2.2 .2主要反应

3.2.2 .3工艺特点

3.2.2 .4工艺法存在的问题

3.2.3 三氯氢硅还原法制备硅烷

3.2.3 .1工艺过程

3.2.3 .2主要反应

3.2.3 .3工艺特点

3.2.3 .4工艺法存在的问题

3.2.4 四氟化硅还原法制备硅烷

3.2.4 .1工艺过程

3.2.4 .2主要反应

3.2.4 .3工艺特点

3.2.4 .4工艺法存在的问题

3.2.5 氯硅烷歧化法制备硅烷

3.2.5 .1工艺过程

3.2.5 .2主要反应

3.2.5 .3工艺特点

3.2.5 .4工艺法存在的问题

3.2.6 烷氧基硅烷歧化法

3.2.6 .1工艺过程

3.2.6 .2主要反应

3.2.6 .3工艺特点

3.2.6 .4工艺法存在的问题

3.3 高纯硅烷气体的净化工艺线

3.3.1 气体的净化方法概述

3.3.2 高纯硅烷的净化过程

3.4 工业高纯硅烷气体的包装及贮运

第四章 国内外高纯硅烷生产与主要企业现况

4.1 世界高纯硅烷产销、市场规模的概况

4.2 国外高纯硅烷主要生产企业产销情况

4.3 国外高纯硅烷主要生产企业简况

4.3.1 RECSilicon公司

4.3.2 Dowcorning公司

4.3.3 SODIFF新素材有限公司

4.3.4 MEMC公司

4.3.5 AirLiquid公司

4.3.6 日本电气工业公司

4.3.7 大阳日酸公司

4.3.8 EvonikIndustries公司

4.4 国内硅烷业的发展概述

4.4.1 我国高纯硅烷业发展的概述

4.4.2 我国硅烷研发、生产的历史

4.5 国内高纯硅烷生产企业现况

4.5.1 国内高纯硅烷生产企业总述

4.5.2 浙江中宁硅业有限公司

4.5.3 浙江赛林硅业有限公司

4.5.4 滁州市硅谷特种气体有限公司

4.5.5 六九硅业有限公司

4.5.6 浙江金华美晶硅电子有限公司

4.5.7 金业电子气体股份有限公司

4.5.8 深圳市金业长健新材料股份有限公司

第五章 高纯硅烷主要应用领域的概述

5.1 高纯硅烷在集成电中的应用

5.1.1 集成电芯片制程

5.1.2 化学气相沉积和气体应用

5.1.3 高纯硅烷在化学气相沉积中作为气源形成的薄膜

5.2 高纯硅烷在薄膜硅太阳电池中的应用

5.2.1 非晶硅薄膜太阳能电池

5.2.2 Si薄膜的材料特性

5.2.3 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯硅烷其应用

5.3 高纯硅烷在液晶显示器中的应用

5.4 高纯硅烷在其它领域的应用

5.4.1 在特种玻璃制造中的应用

5.4.2 在电子部件制造中的应用

5.4.3 在化合物半导体材料制造中的应用

5.5 高纯硅烷在电子信息产品中应用市场需求量的测算

第六章 高纯硅烷主要应用市场之一—集成电产业的现况与趋势

6.1 世界半导体硅片生产与市场发展

6.1.1 世界半导体生产的现况

6.1.2 世界半导体硅片的生产状况

6.2 我国半导体晶圆生产与市场现况与发展

6.2.1 我国集成电市场、产业发展现状

6.2.2 我国集成电晶圆制造业情况

第七章 高纯硅烷主要应用市场之二—薄膜太阳能电池产业的现况与趋势

7.1 国内外光伏产业的发展

7.1.1 世界光伏产业的快速发展

7.1.2 我国光伏产业发展与现况

7.2 薄膜太阳能电池的生产与市场

7.2.1 薄膜太阳能电池特点及品种

7.2.2 薄膜太阳能电池未来市场趋势预测

7.2.3 薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化

7.3 国内外薄膜太阳能电池的主要生产企业

第八章 高纯硅烷主要应用市场之三—液晶显示器产业的现况与趋势

8.1 世界平板显示器产业发展现况

8.2 我国平板显示器产业现况与未来发展预测

8.2.1 我国液晶显示产业发展概述

8.2.2 我国LCD面板生产现况与未来几年发展预测

8.2.3 我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析

图表目录

图表 1硅烷性能比较

图表 2气体按其特性分类图

图表 3杂质对硅低温选择性外延沉积的影响

图表 4露-点与集成度的关系

图表 5微粒直径与集成度的关系

图表 6特殊气体供应流程图

图表 7硅烷的性能指标

图表 8氢化锂还原三氯氢硅制备硅烷工艺流程图

图表 9：2015-2017年世界高纯硅烷产销分析

图表 10：2015-2017年世界高纯硅烷市场规模分析

图表 112016-2017年国外高纯硅烷主要生产企业产销情况

图表 12近4年RECSilicon公司流动资产周转次数变化情况

图表 13近4年RECSilicon公司总资产周转次数变化情况

图表 14近4年RECSilicon公司销售毛利率变化情况

图表 15近4年RECSilicon公司资产负债率变化情况

图表 16近4年RECSilicon公司产权比率变化情况

图表 17近4年RECSilicon公司固定资产周转次数情况

图表 18近4年Dowcorning公司流动资产周转次数变化情况

图表 19近4年Dowcorning公司总资产周转次数变化情况

图表 20近4年Dowcorning公司销售毛利率变化情况

图表 21近4年Dowcorning公司资产负债率变化情况

图表 22近4年Dowcorning公司产权比率变化情况

图表 23近4年Dowcorning公司固定资产周转次数情况

图表 24近4年SODIFF新素材有限公司流动资产周转次数变化情况

图表 25近4年SODIFF新素材有限公司总资产周转次数变化情况

图表 26近4年SODIFF新素材有限公司销售毛利率变化情况

图表 27近4年SODIFF新素材有限公司资产负债率变化情况

图表 28近4年SODIFF新素材有限公司产权比率变化情况

图表 29近4年SODIFF新素材有限公司固定资产周转次数情况

图表 30近4年MEMC公司流动资产周转次数变化情况

图表 31近4年MEMC公司总资产周转次数变化情况

图表 32近4年MEMC公司销售毛利率变化情况

图表 33近4年MEMC公司资产负债率变化情况

图表 34近4年MEMC公司产权比率变化情况

图表 35近4年MEMC公司固定资产周转次数情况

图表 36近4年AirLiquid公司流动资产周转次数变化情况

图表 37近4年AirLiquid公司总资产周转次数变化情况

图表 38近4年AirLiquid公司销售毛利率变化情况

图表 39近4年AirLiquid公司资产负债率变化情况

图表 40近4年AirLiquid公司产权比率变化情况

图表 41近4年AirLiquid公司固定资产周转次数情况

图表 42近4年日本电气工业公司流动资产周转次数变化情况

图表 43近4年日本电气工业公司总资产周转次数变化情况

图表 44近4年日本电气工业公司销售毛利率变化情况

图表 45近4年日本电气工业公司资产负债率变化情况

图表 46近4年日本电气工业公司产权比率变化情况

图表 47近4年日本电气工业公司固定资产周转次数情况

图表 48近4年大阳日酸公司流动资产周转次数变化情况

图表 49近4年大阳日酸公司总资产周转次数变化情况

图表 50近4年大阳日酸公司销售毛利率变化情况

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