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2018-2024年中国半导体晶圆清洗设备市场深度研究与行业发展趋势报告

字体大小：大中小2018-07-25 中国产业研究报告网 http://www.chinairr.org

【报告名称】2018-2024年中国半导体晶圆清洗设备市场深度研究与行业发展趋势报告
【关键字】半导体晶圆清洗设备半导体晶圆清洗设备市场分析
【出版日期】2018-7
【交付方式】Email电子版/特快专递
【价　　格】纸介版：9800元电子版：9800元纸介+电子：10000元
【订购电话】400-700-9383(免长话费) 010-80993936 传真：010-60343813
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近年来，我国半导体专用设备销量稳步增长，增速显著快于全球水平。

全球及我国半导体专用设备销售情况

我国半导体设备销售增速近年有所减缓，主要是由于晶圆环节设备要求较高，我国目前仍难以介入。前期辅助设备部分替换后，继续提升国产化水平难度上升。

我国封测企业近年来发展势头良好，长电科技、华天科技、通富微电等内资企业均已跻身全球前十，为我国封测设备的国产化替代打下了良好基础。据了解，我国封测设备，尤其是测试设备，在技术指标上已基本接近全球领先水平，有望借半导体行业大发展契机，迅速拓展市场，增长前景可观。

晶圆制程设备以往封装形式中，基板是沟通芯片和PCB的桥梁。基板中有较多金属线。目前其间距缩小已达极限。第五代封装技术FOWLP不采用基板，而是通过RDL重布线方式构建I/O，需要采用微影技术（类似晶圆制程），要用到晶圆制程设备。

FOWLP演进过程

中国产业研究报告网发布的《2018-2024年中国半导体晶圆清洗设备市场深度研究与行业发展趋势报告》共十四章。首先介绍了中国半导体晶圆清洗设备行业市场发展环境、半导体晶圆清洗设备整体运行态势等，接着分析了中国半导体晶圆清洗设备行业市场运行的现状，然后介绍了半导体晶圆清洗设备市场竞争格局。随后，报告对半导体晶圆清洗设备做了重点企业经营状况分析，最后分析了中国半导体晶圆清洗设备行业发展趋势与投资预测。您若想对半导体晶圆清洗设备产业有个系统的了解或者想投资中国半导体晶圆清洗设备行业，本报告是您不可或缺的重要工具。

本研究报告数据主要采用国家统计数据，海关总署，问卷调查数据，商务部采集数据等数据库。其中宏观经济数据主要来自国家统计局，部分行业统计数据主要来自国家统计局及市场调研数据，企业数据主要来自于国统计局规模企业统计数据库及证券交易所等，价格数据主要来自于各类市场监测数据库。

报告目录：

第.一章半导体晶圆清洗设备产业概述

1.1 半导体晶圆清洗设备定义

1.1.1 半导体晶圆清洗设备定义

1.1.2 半导体晶圆清洗设备产品参数

1.2 半导体晶圆清洗设备分类

1.3 半导体晶圆清洗设备应用领域

1.4 半导体晶圆清洗设备产业链结构

1.5 半导体晶圆清洗设备产业概述及主要地区发展现状

1.5.1 半导体晶圆清洗设备产业概述

1.5.2 半导体晶圆清洗设备全球主要地区发展现状

1.6 半导体晶圆清洗设备产业政策分析

1.7 半导体晶圆清洗设备行业新闻动态分析

第二章 半导体晶圆清洗设备生产成本分析

2.1 半导体晶圆清洗设备原材料价格分析

2.2 半导体晶圆清洗设备设备的供应商及价格分析

2.3 劳动力成本分析

2.4 其他成本分析

2.5 生产成本结构分析

2.6 半导体晶圆清洗设备生产工艺分析

Novec 流体是一系列不易燃，非臭氧消耗，低全球变暖潜能的溶剂清洗剂，对于晶圆颗粒去除非常有效，同时与精细薄膜，光阻和大部分结构材料可兼容—在许多应用中成为了IPA，NMP和其它传统溶剂的安全，可持续发展的, 高性能替代产品。

例如，Novec流体对残留的含氟聚合物残具有优良的溶解性，可帮助有效去除MEMS和硅通孔（TSV）中的Bosch蚀刻所产生的颗粒。当和其它溶剂混合时，NOVEC流体可以有效地去除在铜/低介电常数设备中常见的对水敏感的基材上的光阻。

Bosch蚀刻工艺流程示意图

对NMP和NOVEC7200流体对Bosch蚀刻工艺产生的含氟聚合物侧壁残留物的去除能力进行的对比。在这里可以看到，二次离子质谱图在质量数343处出现一个很强的信号，这个信号代表了晶圆上的一个含氟聚合物片段。用NOVEC7200清洗的样品所显示的信号最低。

NOVEC流体作为纯溶剂，共沸混合物或共溶剂，可以有效去除亚微米级的微粒和离子污染物。高溶剂能力和低表面张力，可以使这些液体渗透到狭小的空间和复杂的几何形状中- 以确保晶圆的高清洗效率，特别是在3D晶圆清洗中。

NMP 比较

2.7 全球2010-2017年半导体晶圆清洗设备价格、成本及毛利分析

第三章 技术资料和制造工厂分析

3.1 全球主要生产商2017年产能及商业投产日期

3.2 全球主要生产商2017年半导体晶圆清洗设备工厂分布

3.3 全球主要生产商2017年半导体晶圆清洗设备市场地位和技术来源

3.4 全球主要生产商2017年半导体晶圆清洗设备关键原料来源分析

第四章 半导体晶圆清洗设备产量细分（按地区、产品类别及应用）

4.1 全球主要地区2010-2017年半导体晶圆清洗设备产量细分

4.2 全球2010-2017年半导体晶圆清洗设备主要产品类别产量

4.3 全球2010-2017年半导体晶圆清洗设备主要应用领域产量

4.4 全球半导体晶圆清洗设备主要生产商2017年价格分析

4.5 美国2010-2017年半导体晶圆清洗设备产能、产量、价格、成本及产值分析

4.6 欧盟2010-2017年半导体晶圆清洗设备产能、产量、价格、成本及产值分析

4.7 日本2010-2017年半导体晶圆清洗设备产能、产量、价格、成本及产值分析

4.8 中国2010-2017年半导体晶圆清洗设备产能、产量、价格、成本及产值分析

第五章 半导体晶圆清洗设备消费量及消费额的地区分析

5.1 全球主要地区2010-2017年半导体晶圆清洗设备消费量分析

5.2 全球主要地区2010-2017年半导体晶圆清洗设备消费额分析

5.3 全球主要地区2010-2017年消费价格分析

第六章 半导体晶圆清洗设备2010-2017年产供销需市场现状和分析

6.1 2010-2017年半导体晶圆清洗设备产能及产量统计

6.2 半导体晶圆清洗设备2010-2017年产量及市场份额

6.3 半导体晶圆清洗设备2010-2017年销量综述

6.4 半导体晶圆清洗设备2010-2017年供应量、销量及缺口量

6.5 中国2010-2017年半导体晶圆清洗设备进口量、出口量及消费量

6.6 半导体晶圆清洗设备2010-2017年成本、价格、产值、毛利率

第七章 半导体晶圆清洗设备核心企业研究

7.1 大日本屏幕

7.1.1 企业介绍

7.1.2 产品图片与参数

7.1.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.1.4 联系信息

7.2 东电电子

7.2.1 企业介绍

7.2.2 产品图片与参数

7.2.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.2.4 联系信息

7.3 Lam Research

7.3.1 企业介绍

7.3.2 产品图片与参数

7.3.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.3.4 联系信息

7.4 索尼半导体解决方案公司

7.4.1 企业介绍

7.4.2 产品图片与参数

7.4.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.4.4 联系信息

7.5 Cleaning Technologies

7.5.1 企业介绍

7.5.2 产品图片与参数

7.5.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.5.4 联系信息

7.6 Falcon

7.6.1 企业介绍

7.6.2 产品图片与参数

7.6.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.6.4 联系信息

7.7 Akrion

7.7.1 企业介绍

7.7.2 产品图片与参数

7.7.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.7.4 联系信息

7.8 MEI Wet

7.8.1 企业介绍

7.8.2 产品图片与参数

7.8.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.8.4 联系信息

7.9 Modutek

7.9.1 企业介绍

7.9.2 产品图片与参数

7.9.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.9.4 联系信息

7.10 SEMES

7.10.1 企业介绍

7.10.2 产品图片与参数

7.10.3 产能、产量、产值、价格、成本、毛利及毛利率分析

7.10.4 联系信息

第八章 半导体晶圆清洗设备价格和毛利率分析

8.1 价格、供应及消费分析

8.1.1 价格分析

8.1.2 供应分析

8.2 毛利率分析

8.3 全球各地区价格对比

8.4 半导体晶圆清洗设备不同种类产品价格分析

8.5 不同价格水平半导体晶圆清洗设备市场份额分析

8.6 不同应用领域半导体晶圆清洗设备毛利率分析

第九章 半导体晶圆清洗设备营销渠道分析

9.1 半导体晶圆清洗设备营销渠道现状分析

9.2 贸易商和分销商及其联系信息

9.3 出厂价、渠道价和终端价分析

9.4 各地区半导体晶圆清洗设备进口、出口和贸易

第十章 半导体晶圆清洗设备行业2018-2024年发展预测

10.1 半导体晶圆清洗设备2018-2024年产能及产量预测

10.2 半导体晶圆清洗设备2018-2024年产量及市场份额

10.3 半导体晶圆清洗设备2018-2024年销量综述

10.4 半导体晶圆清洗设备2018-2024年供应量、销量及缺口量

10.5 半导体晶圆清洗设备2018-2024年进口量、出口量及消费量

10.6 半导体晶圆清洗设备2018-2024年成本、价格、产值、毛利率

第十一章 半导体晶圆清洗设备供应链分析

11.1 半导体晶圆清洗设备原材料主要供应商和联系方式

11.2 半导体晶圆清洗设备生产设备供应商及联系方式

11.3 半导体晶圆清洗设备主要供应商和联系方式

11.4 半导体晶圆清洗设备主要客户联系方式

11.5 半导体晶圆清洗设备供应链条关系分析

第十二章 半导体晶圆清洗设备新项目投资可行性分析（ZY GXH）

12.1 半导体晶圆清洗设备新项目SWOT分析

12.2 半导体晶圆清洗设备新项目可行性分析（ZY GXH）

图表目录：

图半导体晶圆清洗设备产品

表半导体晶圆清洗设备产品参数

表半导体晶圆清洗设备产品分类

图 2017年全球不同种类半导体晶圆清洗设备产量市场份额

表半导体晶圆清洗设备应用领域表

图全球2017年半导体晶圆清洗设备不同应用领域销量市场份额

图半导体晶圆清洗设备产业链结构

表全球主要地区半导体晶圆清洗设备全球主要地区

表全球半导体晶圆清洗设备产业政策

表全球半导体晶圆清洗设备产业动态

表半导体晶圆清洗设备主要原材料及供应商

表半导体晶圆清洗设备2017年生产成本结构

图半导体晶圆清洗设备生产工艺流程

图 2010-2017年全球半导体晶圆清洗设备价格走势（元/套）

图 2010-2017年全球半导体晶圆清洗设备成本走势（元/套）

图 2010-2017年全球半导体晶圆清洗设备毛利走势分析

表全球半导体晶圆清洗设备主要生产商2017年产能（万套）及商业投产日期

表全球主要生产商2017年半导体晶圆清洗设备工厂分布

表全球主要生产商2017年半导体晶圆清洗设备市场地位和技术来源

表全球主要生产商2017年半导体晶圆清洗设备关键原料来源分析

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